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  • 高真空电子束式热蒸发薄膜沉积系统
  • 高真空电阻加热式(金属/有机)薄膜沉积系统
高真空电子束式热蒸发薄膜沉积系统

高真空电子束式热蒸发薄膜沉积系统

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型号

SYCY-EB01A

结构形式

真空室采用U型箱体前开门,后置抽气系统

真空室

400mm×400mm×600mm

真空系统配置

机械泵+分子泵

极限压力

5.0×10-5Pa(经烘烤除气后)

恢复真空时间

45分钟可达到9.0×10-4Pa

电子束

蒸发源

270度e型电子枪:阳极电压:6kv、8kv

数量:1套

坩埚:水冷式坩埚,4-6穴设计,每个容量11ml

功率:0-10kw可调

样品台

样片尺寸:可放置3英寸基片

样片加热最高温度:800℃±1℃

样片旋转:转速0~30转/分

样片与蒸发源间距:300~350mm可调

气路系统

0-100SCCM质量流量控制器2路

 

石英晶振膜厚控制仪

膜厚探头数量:1-2只

膜厚测量分辨率:0.01Å/s

膜厚显示范围:0~99μ9999Å

水冷却循环系统

制冷量:5.17KW

烘烤照明系统

烘烤温度:室温-150℃

烘烤方式:卤素灯

整机控制方式

(控制方式为选配)

手动控制

半自动控制

全自动化控制

 

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