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高真空多靶磁控溅射薄膜沉积系统

高真空多靶磁控溅射薄膜沉积系统

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型号

SYCY-CK01A

结构形式

电动上开盖结构或前开门

真空室

Φ250mm×300mm

真空系统配置

机械泵+分子泵

极限压力

5.0×10-5Pa(经烘烤除气后)

恢复真空时间

45分钟可达到9.0×10-4Pa

 

 

磁控溅射靶

尺寸:2-4英寸

磁控溅射靶数量:2

磁控溅射方式:垂直溅射

靶基距:60(mm)-90(mm)

兼容:直流(DC)溅射、中频(MF)、射频(RF)溅射

磁控溅射靶溅射方向

(任选其一)

由下向上

由上向下

 

直流电源

功率:1000W

电压:0-700V

电流:0-1A

显示方式:数字式

冷却方式:风冷

 

 

射频电源

功率:500W

频率13.56MHz

显示:数字式

匹配方式:自动匹配

功率稳定度:±0.1%

 

样品台

 

样片尺寸:可放置3英寸基片

样片加热最高温度:600℃±1℃

样片旋转:转速0~30转/分

样片与磁控溅射靶间距:60-90mm可调

 

气路系统

(气体流量控制)

质量流量控制器数量:0-100 SCCM 2路

质量流量控制器准确度:±1.5%F.S

质量流量控制器线性:±1%F.S

质量流量控制器重复精度:±0.2%F.S

流量显示仪

通道数量:二路显示

量程范围:0-100 SCCM

 

石英晶振膜厚控制仪

 

膜厚探头数量:1-2只

膜厚测量分辨率:0.1Å/s

膜厚显示范围:0~99μ9999Å

水冷却循环系统

制冷量:2.85KW(1P)

偏压系统

-200V

烘烤照明系统

烘烤温度:室温-150℃

烘烤方式:卤素灯

压力控制方式

(选配)

手动蝶阀+薄膜规(手动控制)

电动蝶阀+薄膜规(自动控制)

插板阀+复合真空计(手动或自动)

整机控制方式

(控制方式为选配)

手动控制

半自动控制

全自动化控制

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