产品详情

  • 高真空电阻加热式(金属/有机)薄膜沉积系统
高真空电阻加热式(金属/有机)薄膜沉积系统

高真空电阻加热式(金属/有机)薄膜沉积系统

  • 商品编号:
  • 拍摄角度:
  • 视频像素:
  • 上架时间:
  • 产品描述:
  • 在线订购

一、设备用途:
各种单层膜、多层膜、掺杂膜系。它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种有机材料、金属材料、无机材料的单层或多层膜,适用于制备金属单质膜、半导体膜、有机功能膜等。主要应用于OLED、OPV、钙钛矿等薄膜制备

、设备参数:

规格型号

SYCY-ZF01A

结构形式

真空室采用型箱体

真空室

 ∮350mm×400mm

真空系统配置

复合分子泵+机械泵

极限压力

5.0×10-5Pa(经烘烤除气后);

恢复真空时间

45分钟可达到8.0×10-4Pa

样品台

样片尺寸:可放置3英寸基片

样片加热最高温度:800℃±1℃

样片旋转:转速0~30转/分

样片与蒸发源间距:250~300mm可调

 

 

金属蒸发源

加热温度(约):室温-1500℃

蒸发源模式:双水冷电极柱+蒸发舟

安装位置:腔体底部均匀分布

蒸发源数量:2-4

蒸发源挡板开启关闭方式:手动、气动、电动

(任选其一)

冷却方式:水冷

 

      金属蒸发电源

功率:1000W-2000W

电压:5V

电流:200A-300A

电源数量:2-4

 

有机蒸发源

加热温度:室温-600℃

蒸发模式:束源炉+石英坩埚

安装位置:腔体底部均匀分布

蒸发源数量:4-8组

控温精度:±1℃

蒸发源挡板开启关闭方式:手动、气动、电动

(任选其一)

 

有机蒸发电源

功率:500W-1000W

电压:24V

电流:20A-40A

电源数量:2-4

 

石英晶振膜厚控制仪

膜厚显示范围:0~99μ9999Å

膜厚测量分辨率:0.1Å/s

膜厚探头数量:2-6只

水冷却循环系统

制冷量:0.85KW

烘烤照明系统

烘烤温度:室温-150℃

烘烤方式:卤素灯

整机控制方式

(控制方式为选配)

手动控制

半自动控制

全自动化控制

上一个:高真空多靶磁控溅射薄膜沉积系统 下一个:没有了
用手机扫描二维码关闭
二维码